Christopher Williams, “Weimar Lux CDS, VEB Feingerätewerk Weimar / Price 86.50 Mark GDR / Filmempfindlichkeitsbereich 9 bis 45 DIN und 6 bis 25000 ASA / Blendenskala 0,5 bis 45, Zeitskala 1/4000 Sekunde bis 8 Stunden, ca. 1980 / Models: Ellena Borho and Christoph Boland / November 12, 2010,” (2010)

Christopher Williams, Weimar Lux CDS, VEB Feingerätewerk Weimar / Price 86.50 Mark GDR / Filmempfindlichkeitsbereich 9 bis 45 DIN und 6 bis 25000 ASA / Blendenskala 0,5 bis 45, Zeitskala 1/4000 Sekunde bis 8 Stunden, ca. 1980 / Models: Ellena Borho and Christoph Boland / November 12, 2010,(2010).Photo: Courtesy The Art Institute of Chicago, Photography Associates, James and Karen Frank, and Comer Foundation funds, 2011.318. Courtesy of the artist; David Zwirner, New York/London; and Galerie Gisela Capitain, Cologne © Christopher Williams

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Christopher Williams (American, born 1956). Weimar Lux CDS, VEB Feingerätewerk Weimar / Price 86.50 Mark GDR / Filmempfindlichkeitsbereich 9 bis 45 DIN und 6 bis 25000 ASA / Blendenskala 0,5 bis 45, Zeitskala 1/4000 Sekunde bis 8 Stunden, ca. 1980 / Models: Ellena Borho and Christoph Boland / November 12, 2010. 2010. Pigmented inkjet print. Paper: 24 x 20″ (61 x 50.8 cm); framed: 37 1/2 x 32 1/2″ (95.3 x 82.6 cm). The Art Institute of Chicago, Photography Associates, James and Karen Frank, and Comer Foundation funds, 2011.318. Courtesy of the artist; David Zwirner, New York/London; and Galerie Gisela Capitain, Cologne © Christopher Williams


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